今天低溫等離子電源廠家來給大家講解一下等離子清洗的分類。
等離子體與固體表面發(fā)生反應可以分為物理反應和化學反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面被真空泵吸走;化學反應機制是各活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質,再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質。
以物理反應為主的等離子體清洗,也叫做濺射腐蝕或離子銑,其優(yōu)點在于本身不發(fā)生的化學反應,清潔表面不會留下氧化物,可以保持被清洗物的化學純凈性,腐蝕作用各向異性;缺點就是對表面產生了很大的損害,會產生很大的熱效應,對被清洗表面的各不同物質選擇性差,腐蝕速度較低。以化學反應為主的等離子體清洗的優(yōu)點是清洗速度較高、選擇性好、對清掉污染物有用,缺點是會在表面產生氧化物。
和物理反應相比較,化學反應的缺點不易克服。并且兩種反應機制對表面微觀形貌造成的影響有不同,物理反應能夠使表面在分子類范圍內變得“粗糙”,從而改變表面的粘接特性。還有一種
等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用,即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕,兩種清洗可以互相促成,離子轟擊使被清洗表面產生損壞削弱其化學鍵或者形成原子態(tài),容易吸收反應劑,離子碰撞使被清洗物加熱,使之容易產生反應;其作用是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性,又有較好的方向性。